Zeta potential
Zeta電位
Zeta電位，又稱為界達電位，是一種量測粒子表面帶電狀態的物性質。
一般而言zeta電位的絕對值越大，表示粒子之間的電荷斥力越強可以維持較長時間分散良好狀態。
以直線型電泳搭配業界獨家多點電滲流分析量測。又被稱為電氣泳動光散射法(ELS)，是量測界達電位最常見的手法之一。
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Particle size
粒徑．粒徑分佈
溶液中的粒子會依據粒徑大小產生不同程度的布朗運動。小粒子的布朗運動較快，大粒子則反之。
當光照射在這些粒子上會產生散射光，小粒子的散射光強會劇烈變動，大粒子則會緩慢變化。
利用這些變化波動，可量測溶液中粒子的大小。此種方法又稱為動態光散射法(DLS)法，廣泛應用在奈米~微米級的粒徑分析方法。
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Surface zeta potential
固體表面電位
固體的樣品因為表面官能基或表面改質等帶電狀況都不相同，大塚電子獨家技術利用分析電滲流方式可分析固體表面電位，進而研究表面改質前後差異，或是該板狀樣品與溶液中粒子的交互作用，且可自由更換液相不受限制。
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Molecular Weight
分子量
組成分子的所有分子之原子量總和。以靜態光散射法SLS量測。
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Spherulite diam / Corr. Length
球晶徑．相關長
主要使用可見光，比起小角X線散射(SAXS)或小角中性子散射(SANS)相比，可以量測較大的構造(μm等級)。
Hv散射可量測光學異方性及結晶，Vv散射可以量測高分子相分離、配向特性等解析。
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Thickness Monitor
反射分光膜厚儀
以反射率的光干涉量測，可同時分析膜厚、光學常數(n、K值)、絕對反射率。
可搭配顯微鏡可量測小面積區域(spot 3μm以上)，量測範圍由1nm~開始。
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應該如何選擇膜厚儀🔖膜厚計推薦選擇指南🧾
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Si Wafer Thickness Monitor
晶圓/基板Load-Port設備
可配合半導體工廠膜厚需求一體化。Load Port 對應晶圓厚度膜厚量測設備。
可配合客戶需求進行選擇的產品量測項目(半導體Device量測・基板厚度量測・貼合晶圓量測)
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Spectrum Ellipsometer
橢圓偏光儀
高精度薄膜解析分光橢偏儀、測定角度可自動調整機構、能對應所有可透光種類的薄膜。
以回轉檢光子、位相差板設置自動切換機構使測定精度提升。最小光學膜厚測定範圍從0.1nm到1um.
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Spectrometer
分光光譜儀
紫外光到近紅外光領域的多通道分光光譜儀。最快5ms量測光譜。配合多種客製化方案，可對應多種量測需求。顯微分光、光源量測、透過、反射等等，配合軟體也可量測物體色、膜厚等項目。
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In-Process Evaluation
Inline-線上檢測
擁有業界標竿水準的量測穩定性，可提供高度信賴性的優異光學量測設備(亦可搭配各式先進生產線進行客製化設計)
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Fluorescence
螢光量測
搭配積分半球絕對量子效率的量測，包含內部與外部量子效率絕對值
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Retardation
相位差
兼具廣泛用途與高精度
所有光學機能膜材皆可對應
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Film formation process
機能性薄膜・材料評價
介紹適用於各種應用和高精度的所有光學功能薄膜和材料（螢光材料）的測量儀器。
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LED evaluation process
LED發光相關量測
LED固體發光元件評價。 介紹從製造過程中可以光學測量成品的量測設備。
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Color Filter Spectral Inspection
彩色濾光片色度檢查
擁有業界標竿水準的量測穩定性，可對應任何世代玻璃尺寸的優異光學量測業界標準機設備。
透過率、色度、光學濃度、膜厚、反射率、線寬等測量，完整支援彩色濾光片製程中所有檢測評價。
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RETS-Series
Cell Gap・預傾角・扭轉角檢測
以穿透、半穿透方式量測TFT、STN以及不同驅動模式的VA、IPS及強誘電性液晶，也支援反射型TFT、STN液晶。從研發階段到品管工程完整對應機種。
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LCD-Series
液晶顯示器面板&模組檢測評價
三種型號的顯示器動態評估系列
・主要針組小型LCD面板在-35度~90度的環境下進行光學電氣特性量測評價
・藉由模擬人類眼球移动方式進行各種顯示器之高精度量測可更貼近於人類的真實視覺
・對應日本工業標準、 可提供高性能的分光測光器
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PCR+CE
排除傳統電泳中的人為誤差，操作簡單，只需兩步驟：前處理與解析。
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